[实用新型]一种电容耦合等离子体原子层沉积反应腔体有效

专利信息
申请号: 202020281180.6 申请日: 2020-03-09
公开(公告)号: CN211734467U 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 江苏迈纳德微纳技术有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/50
代理公司: 无锡市才标专利代理事务所(普通合伙) 32323 代理人: 田波
地址: 214000 江苏省无锡市新*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及原子层沉积反应设备技术领域,且公开了一种电容耦合等离子体原子层沉积反应腔体,包括腔体底座和腔体盖,所述腔体底座的内侧安装有环壁隔热层,所述腔体底座腔体端口内侧底部安装有水冷盖板,所述腔体底座的两侧对称安装有伸缩气弹簧,所述腔体底座的内侧壁安装有中央加热盘,腔体底座的底部安装有与中央加热盘相连通的法兰焊接头。该电容耦合等离子体原子层沉积反应腔体,通过电容耦合,激发反应气体活化,使反应气体具有更好的反应活性,从而提高原子层沉积过程中的反应效率,降低沉积温度,提高薄膜的沉积质量有效的增加了设备水平压力稳定性,外腔体筒的内侧台阶式设计,有效的降低放电离子撞击设备腔体内侧壁。
搜索关键词: 一种 电容 耦合 等离子体 原子 沉积 反应
【主权项】:
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