[实用新型]一种半导体制程车间排气系统有效

专利信息
申请号: 202020060670.3 申请日: 2020-01-13
公开(公告)号: CN211914922U 公开(公告)日: 2020-11-13
发明(设计)人: 刘志祥 申请(专利权)人: 苏州锐泽系统工程有限公司
主分类号: B08B15/00 分类号: B08B15/00;B01D46/00;B01D46/10;B08B1/02;B08B5/02;B08B15/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215163 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种半导体制程车间排气系统,包括机台,所述机台通过排气管道和主排气管道连接,所述排气管道固定连接有过滤装置,所述过滤装置包括电机、过滤机构和清扫机构,所述电机的输出轴和过滤机构固定连接,所述过滤机构通过传动件和清扫机构啮合连接,所述过滤装置设有收集室。本实用新型结构简单,操作方便,设计科学合理,通过对机台和主排气管道之间的排气管道设置专用的过滤装置,有效避免机台工作过程中产生的粉尘遍布整个排气系统,降低工作人员对排气系统清理的难度,减少排气管道出现堵塞的情况,提高设备持续工作的能力,提高半导体制程的工作效率,增加经济效益。
搜索关键词: 一种 半导体 车间 排气 系统
【主权项】:
暂无信息
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