[发明专利]薄膜晶体管用薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 202011642912.0 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112813386A 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 汤惠淋;宋世金;朱刘;邵学亮 申请(专利权)人: 先导薄膜材料(广东)有限公司
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/35;H01L21/02;H01L29/10
代理公司: 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387 代理人: 张向琨
地址: 511517 广东省清*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本公开提供一种薄膜晶体管用薄膜的制备方法,其包括步骤:步骤一:将掺镨的IGZO靶材安装;步骤二:衬底清洗;步骤三:直流磁控溅射生长镨掺杂非晶铟镓锌氧化物薄膜,其中,所述的掺镨的IGZO靶材为IGZO靶材远离背板的一侧表面镨掺杂质量浓度的范围为15%~20%,随着靶材深度每增加0.3~0.7mm,镨掺杂浓度增加0.2%~0.6%;掺镨的IGZO靶材的密度≥6.642g/cm3。本公开通过提供一种浓度梯度的靶材,随着溅射沟道的加深,靶材组分梯度的变化,使得溅射获得的薄膜组分均一,透明导电性能稳定。
搜索关键词: 薄膜 晶体 管用 制备 方法
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