[发明专利]一种晶硅片碱抛光装置及抛光工艺有效
| 申请号： | 202011638639.4 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112792711B | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | 张红利;罗江;李雪芬;王池;李锋清;李杨;袁震芹;虢世恩;毕超群;程力 | 申请（专利权）人： | 武汉风帆电化科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B27/00;B24B41/06;B24B47/00;B24B47/12;B24B57/02;H01L21/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 武汉红观专利代理事务所(普通合伙) 42247 | 代理人： | 李杰梅 |
| 地址： | 430000 *** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提出了一种晶硅片碱抛光装置及抛光工艺，包括设备主体、抛光模具、固定组件和若干喷嘴，抛光模具能够沿铅垂线方向移动以接触工件上表面，且抛光模具由外源驱动设备驱动并围绕铅垂线做顺时针或逆时针的回转运动，或者以铅垂线为轴线顺时针或逆时针的轴向旋转，以对工件上表面进行抛光，固定组件能够使第一腔体和第三腔体始终保持连通，若干喷嘴固定设置于第一缸盖内周壁上，喷嘴尾端固定连通外源输送机构，当抛光模具对工件上表面进行抛光时，喷嘴向第一腔体和第二腔体内持续输入抛光液；在抛光过程中通过喷嘴持续输入抛光液，使工件上表面始终存在有抛光液，提高了抛光效果，避免抛光模具对工件上表面造成机械损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 抛光 装置 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉风帆电化科技股份有限公司，未经武汉风帆电化科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011638639.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种FPC软板快冲机
- 下一篇：一种纸盒的成型工艺
