[发明专利]一种化学机械抛光液及其使用方法在审
| 申请号： | 202011622810.2 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114686118A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 倪宇飞;荆建芬;周靖宇;姚颖;周文婷;刘天奇;杨俊雅;蔡鑫元;常宾;唐浩杰 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/04 | 分类号： | C09G1/04;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法。该化学机械抛光液包括研磨颗粒，金属缓蚀剂，络合剂，氧化剂，表面活性剂和水，其中所述表面活性剂为一种或多种脂肪醇衍生物。本发明中的化学机械抛光液可以满足阻挡层抛光过程中对各种材料的抛光速率和选择比的要求，针对前程铜抛光后的不同程度的碟型凹陷，均有很好的修复与控制能力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
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