[发明专利]应用于管式PECVD沉积设备的生产方法

摘要

本发明提供了一种应用于管式PECVD沉积设备的生产方法，包括：通过翻转驱动装置驱动所述管式沉积腔体内的载具进行翻转运动，通过所述沉积控制装置对所述基板的两个待镀表面中的一个含有多晶硅膜和隧穿氧化膜以及任意一个含有减反射膜和钝化膜的至少一种，以及通过设置于所述管式清洗腔体的清洗控制装置对进入所述管式清洗腔体的载具进行气相清洗处理。本发明通过所述翻转运动使得所述载具无需多次进出所述管式沉积腔体内部就能够实现双面镀，提高了生产效率；通过设置于所述管式清洗腔体的清洗控制装置对进入所述管式清洗腔体的载具进行所述气相清洗处理，无需拆装所述载具，从而进一步提高了生产效率。