[发明专利]背照式单光子雪崩二极管、形成方法以及激光雷达在审
申请号: | 202011538082.7 | 申请日: | 2020-12-23 |
公开(公告)号: | CN114664966A | 公开(公告)日: | 2022-06-24 |
发明(设计)人: | 刘颖彪;弗朗西斯科·潘泽里;向少卿 | 申请(专利权)人: | 上海禾赛科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 | 代理人: | 吴凡 |
地址: | 201821 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种背照式单光子雪崩二极管、形成方法以及激光雷达,背照式单光子雪崩二极管包括中浅槽隔离结构,位于相邻二极管区之间,且位于外延层远离衬底的端面上,浅槽隔离结构能够很好的隔离相邻二极管区,且在背照式单光子雪崩二极管的形成过程中,形成浅槽隔离结构后,形成第一掺杂区,从而形成第一掺杂区的过程中,浅槽隔离结构起到阻挡作用,浅槽隔离结构使得一个二极管区中第一掺杂区的掺杂离子不易进入相邻的二极管区中,使得相邻背照式单光子雪崩二极管之间不易出现元素串扰,有利于提高背照式单光子雪崩二极管的良品率和电学性能。 | ||
搜索关键词: | 背照式单 光子 雪崩 二极管 形成 方法 以及 激光雷达 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的