[发明专利]背照式单光子雪崩二极管、形成方法以及激光雷达在审

专利信息
申请号: 202011538082.7 申请日: 2020-12-23
公开(公告)号: CN114664966A 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 刘颖彪;弗朗西斯科·潘泽里;向少卿 申请(专利权)人: 上海禾赛科技有限公司
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 代理人: 吴凡
地址: 201821 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明实施例提供一种背照式单光子雪崩二极管、形成方法以及激光雷达,背照式单光子雪崩二极管包括中浅槽隔离结构,位于相邻二极管区之间,且位于外延层远离衬底的端面上,浅槽隔离结构能够很好的隔离相邻二极管区,且在背照式单光子雪崩二极管的形成过程中,形成浅槽隔离结构后,形成第一掺杂区,从而形成第一掺杂区的过程中,浅槽隔离结构起到阻挡作用,浅槽隔离结构使得一个二极管区中第一掺杂区的掺杂离子不易进入相邻的二极管区中,使得相邻背照式单光子雪崩二极管之间不易出现元素串扰,有利于提高背照式单光子雪崩二极管的良品率和电学性能。
搜索关键词: 背照式单 光子 雪崩 二极管 形成 方法 以及 激光雷达
【主权项】:
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