[发明专利]一种离子注入机束流与剂量测控装置及方法在审
| 申请号： | 202011523024.7 | 申请日： | 2020-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN112635280A | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 曹华翔;彭立波;王迪平;钟新华;罗南安;徐松 | 申请（专利权）人： | 北京烁科中科信电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01L21/67 |
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| 地址： | 101111 北京市通*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种离子注入机束流与剂量测控装置及方法。测控装置，包括多通道多量程束流采集模块、SPI接口模块、波形发生电路、电压频率转换模块、IO接口模块、通信模块、CPU单元，所述电压频率转换模块，用于将多通道多量程束流采集模块产生的束流电压信号转换频率信号；测控方法可基于该测控装置来实现，包括离子注入之前使束流扫描，并沿水平方向程一定的分布规律；离子注入期间，控制旋转批靶匀速旋转，对剂量杯束流信号转换成的频率信号进行脉冲计数，然后将脉冲数换算成实际剂量。本发明可以实现旋转批靶离子注入机的离子束流和剂量精确采集和控制，使离子按设定剂量均匀地、精确地注入到晶片中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 注入 机束流 剂量 测控 装置 方法 | ||
【主权项】：
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