[发明专利]一种光束质量因子M2在审

专利信息
申请号: 202011404810.5 申请日: 2020-12-04
公开(公告)号: CN113092070A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 宋祥;唐仕旺;胡舒武;武春风;李强;姜永亮;刘厚康;袁红 申请(专利权)人: 武汉光谷航天三江激光产业技术研究院有限公司
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 北京恒和顿知识产权代理有限公司 11014 代理人: 王福新
地址: 430000 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于光束质量因子M2测量技术领域,并具体公开了一种光束质量因子M2快速测量装置及方法。所述装置包括待取样装置、变焦装置、光斑测量装置和数据处理装置,根据所述变焦装置的焦距以及所述变焦装置在不同焦距下所述光斑测量装置实时采集和测量的光斑大小计算待测激光源的光束质量因子M2。所述方法包括:待测激光源发射激光,将激光进行衰减;对衰减后的激光进行聚焦,在连续变焦过程中实时采集和测量焦点处激光光斑大小,计算待测激光源的光束质量因子M2。本发明克服了传统M2测量设备需要驱动反射镜组进行大行程位移导致测量速度慢的缺点,具有原理清晰、调节速度快、操作简便等优点,能够大幅度提高光束质量因子M2的测量速度。
搜索关键词: 一种 光束 质量 因子 base sup
【主权项】:
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