[发明专利]一种衰减型高均匀的相移光掩膜坯料及其制备方法

摘要

本发明提供了一种衰减型高均匀的相移光掩膜坯料，包括：玻璃基片；复合在所述玻璃基片上的相移层；复合在所述相移层上的铬氮化物遮光膜层；复合在所述铬氮化物遮光膜层上的铬氮氧化物减反射膜层；所述相移层为硅氧化物薄膜。与现有技术相比，本发明提供的衰减型高均匀的相移光掩膜坯料采用特定膜结构，实现较好的整体相互作用，从而使该相移光掩膜坯料兼具高均匀性和良好的显示效果，并且具有强的耐氢氟酸性，应用范围广。