[发明专利]靶材供料设备与真空镀膜设备在审
| 申请号： | 202011387415.0 | 申请日： | 2020-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN112553582A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 余仲;李时俊;王志民;谢进学 | 申请（专利权）人： | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 谢岳鹏 |
| 地址： | 518118 广东省深圳市坪山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种靶材供料设备与真空镀膜设备，靶材供料设备中，第一密封模组用于打开或者切断第一存储模与外界的连通；第二密封模组用于于打开或者切断第一存储模组与第二存储模组的连通；第一上料模组用于在第二密封模组处于切断状态时将靶材送入第一存储模组；第二上料模组用于在第一密封模组处于切断状态，且第二密封模组处于打开状态时，将所述第一存储模组中的靶材移送至第二存储模组；第三上料模组用于将第二存储模组上的靶材移送至设定位置。本发明实施例的靶材供料设备可以实现对不间断供料，保证工艺的持续进行。同时，第二容器可以始终保持与外界的隔离，避免破坏反应位置的真空状态。 | ||
| 搜索关键词： | 供料 设备 真空镀膜 | ||
【主权项】：
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