[发明专利]靶材供料设备与真空镀膜设备

说明书

本发明公开了一种靶材供料设备与真空镀膜设备，靶材供料设备中，第一密封模组用于打开或者切断第一存储模与外界的连通；第二密封模组用于于打开或者切断第一存储模组与第二存储模组的连通；第一上料模组用于在第二密封模组处于切断状态时将靶材送入第一存储模组；第二上料模组用于在第一密封模组处于切断状态，且第二密封模组处于打开状态时，将所述第一存储模组中的靶材移送至第二存储模组；第三上料模组用于将第二存储模组上的靶材移送至设定位置。本发明实施例的靶材供料设备可以实现对不间断供料，保证工艺的持续进行。同时，第二容器可以始终保持与外界的隔离，避免破坏反应位置的真空状态。

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及靶材供料设备与真空镀膜设备。

背景技术

靶材是镀膜工艺中不可或缺的的溅射源，在进行真空镀膜的过程中需要持续的添加靶材，相关技术中的供料设备难以在保证密封的条件下实现持续供料，影响生产的连续性。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出一种靶材供料设备，能够实现持续供料，保证工艺的持续进行。

本发明还公开了应用上述靶材供料设备的真空镀膜设备。

根据本发明第一实施例的靶材供料设备，包括：

第一存储模组，包括第一容器、第一转盘与第一固定装置，所述第一容器具有第一入口与第一出口，所述第一转盘位于所述第一容器内，多个第一固定装置沿所述第一转盘的周向分布；

第二存储模组，包括第二容器、第二转盘与第二固定装置，所述第二容器具有第二入口，所述第二容器与所述第一容器之间通过所述第二入口与所述第一出口连通，所述第二转盘位于所述第二容器内，多个第二固定装置沿所述第二转盘的周向分布；

第一密封模组，用于打开或者切断所述第一容器与外界的连通；

第二密封模组，用于打开或者切断所述第一容器与所述第二容器的连通；

第一上料模组，与所述第一存储模组连接，用于在所述第二密封模组处于切断状态时将靶材通过所述第一入口移送至各所述第一固定装置；

第二上料模组，与所述第一存储模组连接，用于在所述第一密封模组处于切断状态，且所述第二密封模组处于打开状态时，将所述第一固定装置上的所述靶材通过所述第一出口与所述第一入口移送至各所述第二固定装置；

第三上料模组，与所述第二存储模组连接，用于将所述第二固定装置上的所述靶材移送至设定位置。

根据本发明实施例的靶材供料设备，至少具有如下有益效果：

第一容器内的靶材可以持续地补入第二容器中，使得第二容器始终保持有一定数量的靶材，从而能够维持对反应位置的靶材供应，而当第一容器内的靶材消耗完毕之后，可以通过第一密封装置在第一容器与第二容器的连通，在不影响第二容器向反应位置补料的基础上对第一容器进行补料，如此，可以实现对不间断供料，保证工艺的持续进行。同时，第二容器可以始终保持与外界的隔离，避免破坏反应位置的真空状态。

根据本发明的一些实施例，所述第一容器位于所述第二容器的下方，所述第一上料模组与所述第二上料模组位于所述第一容器的下方，所述第三上料模组位于所述第二容器的下方，所述第一上料模组、所述第二上料模组与所述第三上料模组均能够沿竖直方向移送所述靶材。

根据本发明的一些实施例，所述第一固定装置与所述第二固定装置均包括定位套与弹片，所述弹片位于所述定位套的内腔中，能够发生向上的单向变形。

根据本发明的一些实施例，所述第一上料模组包括基座与第一推动装置，其中，