[发明专利]一种原子层沉积装置及OLED封装方法

摘要

本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种原子层沉积装置及OLED封装方法。所述原子层沉积腔室包括腔体、工作台和工件挡板，工作台设置在腔体的底部，用于放置工件；腔体的顶部上开设有第一进气口，腔体的侧壁上开设有第二进气口；从第一进气口和第二进气口进入的气体能够分路径扩散至工件的待成膜区，并在工件的待成膜区反应形成膜层；工件挡板间隔设置在工作台的上方，工件挡板包括非遮挡区和无孔遮挡区，无孔遮挡区用于遮挡工件的待成膜区，防止腔体内的颗粒物沉积在工件待成膜区，减少工件待成膜区上的颗粒物，提高产品良率。所述OLED封装方法通过应用上述原子层沉积装置，能够减少工件表面颗粒物数量，提高产品良率。