[发明专利]磁性隧道结自由层及具有其的磁性隧道结结构在审

专利信息
申请号: 202011349124.2 申请日: 2020-11-26
公开(公告)号: CN114551716A 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 简红;宫俊录;孙一慧;孟凡涛 申请(专利权)人: 浙江驰拓科技有限公司
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;H01L43/02
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 王晓玲
地址: 311300 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种磁性隧道结自由层及具有其的磁性隧道结结构。该磁性隧道结自由层包括沿第一方向顺序层叠的第一磁性复合层、反铁磁间隔结构和第二磁性复合层,在反铁磁间隔结构的作用下第一磁性复合层与第二磁性复合层呈反铁磁耦合,磁化方向相反。由于上述结构采用多层磁性复合层,在控制磁化方向垂直于薄膜界面的同时,增加磁性层的总体厚度,从而增大器件的数据保持能力。并且,为降低写入电流,上述结构使得不同的磁性复合层磁化方向相反,降低整体结构的总磁矩,从而降低写入电流,实现高的器件耐擦写能力。此外,该结构可获得较高的TMR,提高了数据读取速度。
搜索关键词: 磁性 隧道 自由 具有 结构
【主权项】:
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