[发明专利]一种光散射参量测量系统及其测量方法有效

专利信息
申请号: 202011326821.6 申请日: 2020-11-24
公开(公告)号: CN112504629B 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 何向阁;张敏;刘飞;古利娟;卢海龙 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: G01M11/00 分类号: G01M11/00;G01M11/02
代理公司: 北京万象新悦知识产权代理有限公司 11360 代理人: 王岩
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种光散射参量测量系统及其测量方法。本发明采用双频率散射干涉技术实现对光纤中瑞利散射参量的分布式测量,采用双频率干涉技术,通过干涉调制将瑞利散射率r和瑞利散射附加相位θ分别调制在干涉信号的不同成分上,通过简单的滤波即可将两者解耦合,从而实现两者的分别测量;对待测光纤施加一个线性拉伸,使得所有位置上添加均匀的相位变化信号,进而通过低通滤波能够将仅包含瑞利散射率r的项单独提取出来;合理选择脉冲宽度与采集卡的采样率使得脉冲宽度为薄片厚度的两倍,从而简化计算公式;能够实现全新的分布式温度和应变传感器;本发明对瑞利散射参量的直接测量对于一系列与光纤瑞利散射相关的基础与应用研究领域有重要意义。
搜索关键词: 一种 散射 参量 测量 系统 及其 测量方法
【主权项】:
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