[发明专利]一种高通量掩膜版、高通量薄膜制造设备及制造方法在审
| 申请号： | 202011322226.5 | 申请日： | 2020-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN112795869A | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 张晓军;胡凯;姜鹭;方安安;陈志强;杨洪生;董帅;袁国亮;刘东方;尹曦;郑晓昊 | 申请（专利权）人： | 深圳市矩阵多元科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/34 |
| 代理公司： | 深圳市华优知识产权代理事务所(普通合伙) 44319 | 代理人： | 余薇 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区西*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明适用于高通量掩膜版技术领域，提供了一种高通量掩膜版、高通量薄膜制造设备及制造方法，包括：固定在基片上的单孔掩膜版、以及设置在单孔掩膜版上的梯形掩膜版，所述梯形掩膜版上至少设有第一梯形孔和第二梯形孔，通过所述梯形掩膜版在所述单孔掩膜版上移动的方式溅射薄膜到所述基片上形成薄膜厚度梯度；通过将所述梯形掩膜版移动在所述单孔掩膜版上能够溅射薄膜到基片上，在将梯形掩膜版不断的移动过程中会生长成薄膜厚度梯度，三个方向上的梯度组合形成不同的材料，从而提高了材料的制备效率；本发明提高了高通量材料的制造效率，节约成本，结构简单，适用范围广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通量 掩膜版 薄膜 制造 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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