[发明专利]阵列基板及其制备方法在审
| 申请号： | 202011247307.3 | 申请日： | 2020-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN112415799A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 刘煌正 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G03F7/09;C23F1/26;C23F1/02 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 高杨丽 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板及其制备方法，该制备方法包括：沿垂直于玻璃基板的方向，在所述玻璃基板上依次铺设隔离层、金属层和光阻膜层；对所述光阻膜层进行曝光显影处理；对所述隔离层和所述金属层进行初蚀刻处理；对所述金属层进行二次蚀刻处理，使得沿所述玻璃基板的平面方向，所述隔离层的外周与所述金属层的外周之间的间距为0.1‑0.8μm；去除所述光阻膜层。本发明的制备方法简单，所制备得到的阵列基板在应用过程中，能够显著改善液晶面板的暗态漏光现象，提升产品对比度。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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