[发明专利]一种用于外场目标特性校准的装置及光学系统在审
| 申请号： | 202011128753.2 | 申请日： | 2020-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN114383738A | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 曹静;张玉国;李超;吴柯萱;刘保炜;孙广尉;付宇;杜继东 | 申请（专利权）人： | 中国兵器工业试验测试研究院;北京振兴计量测试研究所 |
| 主分类号： | G01J5/53 | 分类号： | G01J5/53 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 71420*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于外场目标特性校准的装置及光学系统，装置包括：光学调制器件、主离轴光学元件以及至少一个次光学元件；光学调制器件用于将标准红外辐射源发出的红外光进行调制；至少一个次光学元件用于将调制后的红外光进行折转；主离轴光学元件用于将折转后的红外光反射形成平行红外光；该系统能够实现光学目标的模拟，各个光学元件的设计能够确保高低温环境下的低变形量，适用的温度范围宽，适用于外场校准，确保良好像质的要求，校准准确性高，支撑结构的设计，能够保证各部分的结构和位置关系在环境温度变化时低变形量，保证面型精度，整体结构轻型化设计，减小系统体积与重量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 外场 目标 特性 校准 装置 光学系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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