[发明专利]一种用于外场目标特性校准的装置及光学系统在审
| 申请号： | 202011128753.2 | 申请日： | 2020-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN114383738A | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 曹静;张玉国;李超;吴柯萱;刘保炜;孙广尉;付宇;杜继东 | 申请（专利权）人： | 中国兵器工业试验测试研究院;北京振兴计量测试研究所 |
| 主分类号： | G01J5/53 | 分类号： | G01J5/53 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 71420*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 外场 目标 特性 校准 装置 光学系统 | ||
1.一种用于外场目标特性校准的装置，其特征在于，包括光学调制器件、主离轴光学元件以及至少一个次光学元件；
所述光学调制器件用于将标准红外辐射源发出的红外光进行调制；
所述至少一个次光学元件用于将调制后的红外光进行折转；
所述主离轴光学元件用于将折转后的红外光反射形成平行红外光。
2.根据权利要求1所述的用于外场目标特性校准的装置，其特征在于，所述主离轴光学元件为离轴抛物面镜。
3.根据权利要求1或2所述的用于外场目标特性校准的装置，其特征在于，所述主离轴光学元件的口径大于或等于550毫米且小于3000毫米。
4.根据权利要求1或2所述的用于外场目标特性校准的装置，其特征在于，所述主离轴光学元件的材质为微晶玻璃。
5.根据权利要求1或2所述的用于外场目标特性校准的装置，其特征在于，所述主离轴光学元件的焦距大于或等于5500毫米且小于50000毫米。
6.根据权利要求1所述的用于外场目标特性校准的装置，其特征在于，所述至少一个次光学元件为平面镜。
7.根据权利要求1或6所述的用于外场目标特性校准的装置，其特征在于，所述至少一个次光学元件的材质为微晶玻璃。
8.根据权利要求1所述的用于外场目标特性校准的装置，其特征在于，所述光学调制器件包括靶标。
9.根据权利要求1所述的用于外场目标特性校准的装置，其特征在于，所述装置还包括用于支撑所述主离轴光学元件的第一支撑架以及用于支撑所述至少一个次光学元件的第二支撑架；
所述第一支撑架和/或第二支撑架的材质为殷钢。
10.一种用于外场目标特性校准的光学系统，其特征在于，包括如权利要求1至9任一项所述的装置，还包括标准红外辐射源。
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