[发明专利]一种磁吸附局部真空蒸镀的方法在审
申请号: | 202011117288.2 | 申请日: | 2020-10-19 |
公开(公告)号: | CN112376019A | 公开(公告)日: | 2021-02-19 |
发明(设计)人: | 梁军浩;贺辛亥;梁欢欢;周光瑞;宁志新;刘宝琪 | 申请(专利权)人: | 西安工程大学 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/04;C23C14/20;C23C14/16;C23C14/18 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 宁文涛 |
地址: | 710048 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种磁吸附局部真空蒸镀的方法,具体包括以下步骤:真空蒸镀前,将蒸镀体与基板固定,然后利用磁场将磁性图案吸附于蒸镀体表面的设定区域,通过真空蒸镀方法使蒸镀体表面完全被金属薄膜覆盖,蒸镀过程结束后,撤掉磁场取下磁性图案即完成局部蒸镀;既可以省去传统化学药品清洗保护涂料的工序,又可以快速高效的完成局部蒸镀过程,避免了污水处理问题,降低了成本,是一种绿色无污染的局部蒸镀方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 吸附 局部 真空 方法 | ||
【主权项】:
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