[发明专利]一种磁吸附局部真空蒸镀的方法在审

专利信息
申请号: 202011117288.2 申请日: 2020-10-19
公开(公告)号: CN112376019A 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 梁军浩;贺辛亥;梁欢欢;周光瑞;宁志新;刘宝琪 申请(专利权)人: 西安工程大学
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/04;C23C14/20;C23C14/16;C23C14/18
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 宁文涛
地址: 710048 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 吸附 局部 真空 方法
【说明书】:

发明公开了一种磁吸附局部真空蒸镀的方法,具体包括以下步骤:真空蒸镀前,将蒸镀体与基板固定,然后利用磁场将磁性图案吸附于蒸镀体表面的设定区域,通过真空蒸镀方法使蒸镀体表面完全被金属薄膜覆盖,蒸镀过程结束后,撤掉磁场取下磁性图案即完成局部蒸镀;既可以省去传统化学药品清洗保护涂料的工序,又可以快速高效的完成局部蒸镀过程,避免了污水处理问题,降低了成本,是一种绿色无污染的局部蒸镀方法。

技术领域

本发明属于薄膜表面处理技术领域,涉及一种磁吸附局部真空蒸镀的方法。

背景技术

传统的局部蒸镀金属工艺是将金属镀层全部蒸镀于施镀体表面,在设定区域对预先涂覆保护涂料的进行水洗或碱洗,污水必须经过处理才能排放,污染处理成本高,环境问题突出。

发明内容

本发明的目的是提供一种磁吸附局部真空蒸镀的方法,解决了现有技术中存在的需要预先涂覆保护涂料、会产生污染废水的问题。

本发明所采用的技术方案是,一种磁吸附局部真空蒸镀的方法,具体包括以下步骤:真空蒸镀前,将蒸镀体与基板固定,然后利用磁场将磁性图案吸附于蒸镀体表面的设定区域,通过真空蒸镀方法使蒸镀体表面完全被金属薄膜覆盖,蒸镀过程结束后,撤掉磁场取下磁性图案即完成局部蒸镀。

本发明的特点还在于:

其中蒸镀体材质为有机薄膜、金属薄板或陶瓷片;

其中磁性图案为铁磁体图案或带有磁铁的非铁磁性图案;

其中磁性图案为铁磁性图案,在基板背面对应区域放置磁铁;

其中磁性图案为带有磁铁的非铁磁性图案,在基板背面对应区域放置磁铁或铁磁体。

本发明的有益效果是

本发明的一种磁吸附局部真空蒸镀的方法在真空蒸镀之前,将蒸镀体与基板固定,利用磁场将磁性图案吸附于蒸镀体表面的设定区域,通过真空蒸镀方法使蒸镀体表面以及图案上均完全被金属薄膜覆盖,蒸镀过程结束后,撤掉磁场取下磁性图案即完成局部蒸镀,既可以省去传统化学药品清洗保护涂料的工序,又可以快速高效的完成局部蒸镀过程,避免了污水处理问题,降低了成本,是一种绿色无污染的局部蒸镀方法。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本发明进行详细说明。

本发明提供了一种磁吸附局部真空蒸镀的方法,具体包括以下步骤:真空蒸镀前,将蒸镀体与基板固定,蒸镀体材质为有机薄膜、金属薄板或陶瓷片;然后利用磁场将磁性图案吸附于蒸镀体表面的设定区域,磁性图案为铁磁体图案或带有磁铁的非铁磁性图案,通过真空蒸镀方法使蒸镀体表面完全被金属薄膜覆盖,蒸镀过程结束后,撤掉磁场取下磁性图案即完成局部蒸镀;

磁性图案为铁磁性图案,在基板背面对应区域放置磁铁;

磁性图案为带有磁铁的非铁磁性图案,在基板背面对应区域放置磁铁或铁磁体。

实施例1

一种在有机膜表面磁吸附局部蒸镀金属的方法,对厚度为0.01~0.25mm聚对苯二甲酸乙二酯薄膜(PET薄膜)电晕处理,并固定于基板上,将磁性图案吸附于PET薄膜表面的设定区域,纯铝放入蒸发源,通过真空蒸镀方法使蒸镀体表面以及图案上均被铝覆盖,蒸镀过程结束后,撤掉磁场取下磁性图案即完成镂空镀铝PET膜。

实施例2

一种在金属板表面磁吸附局部蒸镀金属的方法,对厚度为1~5mm不锈钢板进行表面抛光处理,去除表面污渍,并固定于基板上,将磁性图案吸附于不锈钢板表面的设定区域,纯锌放入蒸发源,通过真空蒸镀方法使不锈钢板表面以及图案上均被锌覆盖,蒸镀过程结束后,撤掉磁场取下磁性图案即完成不锈钢板局部镀锌。

实施例3

一种在陶瓷片表面磁吸附局部蒸镀金属的方法,对厚度为0.5mm~2mm碳化硅片进行表面光整加工,并固定于基板上,将磁性图案吸附于碳化硅片表面的设定区域,纯铜放入蒸发源,通过真空蒸镀方法使碳化硅片表面以及图案上均被铜覆盖,蒸镀过程结束后,撤掉磁场取下磁性图案即完成碳化硅片局部镀铜。

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