[发明专利]一种半导体陶瓷部件表面有机沉积物的去除设备在审
申请号: | 202011072240.4 | 申请日: | 2020-10-09 |
公开(公告)号: | CN112296010A | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 徐柏林 | 申请(专利权)人: | 徐柏林 |
主分类号: | B08B3/10 | 分类号: | B08B3/10;B08B3/08;B08B13/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310000 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种半导体陶瓷部件表面有机沉积物的去除设备,其结构包括机体、引流管、顶盖、控制面板,引流管设在机体右侧中下部,顶盖安装在机体顶部,机体设有叶轮、支撑块、保护装置,由于清洗机内部的水流转动速度加快时,易导致陶瓷部件随着液体流动,出现陶瓷部件与清洗机内壁碰撞的现象,通过保护装置对陶瓷部件进行限位缓冲,减少陶瓷部件随着水流动而移动相互碰撞而破损,有利于陶瓷部件的导电性能不发生改变,由于接触块外表面不平整,使得陶瓷颗粒易堆积在接触块外部,通过开口内部的半圆块对接触块外部的颗粒清除,有利于保持接触块外部保持整洁,加快接触块对陶瓷部件外部的颗粒清除,增加陶瓷部件半导体的导电性。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 陶瓷 部件 表面 有机 沉积物 去除 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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