[发明专利]掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法在审
| 申请号： | 202011025761.4 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN114252042A | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 孟昆鹏;薛雷;程凯;李高波 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B21/16 | 分类号： | G01B21/16;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法，该掩模台垂向测量工装包括：支撑座、测试支座、两个传感器支架和多个传感器，测试支座设置在支撑座上，两个传感器支架分别设置在测试支座两侧，且两个传感器支架均与测试支座连接，多个传感器分别设置在对应的传感器支架上。上述的掩模台垂向测量工装能够提高掩模台的垂向测量效率、提高光刻机产率、节约光刻机使用成本。相应地，本发明还提供一种掩模台垂向测量方法。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模台垂 测量 工装 测量方法 | ||
【主权项】：
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