[发明专利]掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法在审
申请号: | 202011025761.4 | 申请日: | 2020-09-25 |
公开(公告)号: | CN114252042A | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
发明(设计)人: | 孟昆鹏;薛雷;程凯;李高波 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G01B21/16 | 分类号: | G01B21/16;G03F7/20 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩模台垂 测量 工装 测量方法 | ||
本发明公开了一种掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法,该掩模台垂向测量工装包括:支撑座、测试支座、两个传感器支架和多个传感器,测试支座设置在支撑座上,两个传感器支架分别设置在测试支座两侧,且两个传感器支架均与测试支座连接,多个传感器分别设置在对应的传感器支架上。上述的掩模台垂向测量工装能够提高掩模台的垂向测量效率、提高光刻机产率、节约光刻机使用成本。相应地,本发明还提供一种掩模台垂向测量方法。
技术领域
本发明涉及集成电路制造领域,尤其涉及一种掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法。
背景技术
一般地,为保证光刻机的曝光成像质量,需要保证掩模台承版面与物镜顶面之间的垂向距离等于物镜的物距,掩模台的垂向测量精度是保证光刻机曝光成像质量的重要前提。
现有技术中,普遍采用垂向测量块和千分表测量掩模台承版面与物镜顶面之间的垂向距离,垂向测量块的高度等于物镜的物距。测量时,将垂向测量块通过掩模台的镂空处放置于物镜顶面,之后使用大理石表座、千分表及标杆放置于垂向测量块顶面,分别对掩模台承版面上的4个测量点进行测量,如果4个测量点与垂向测量块的上表面不在同一平面上,则计算出误差并根据计算得到的误差调整掩模台垫块,调整后再分别对4个测量点进行测量,直至4个测量点与垂向测量块的上表面都在同一平面上,完成掩模台的垂向测量及调整操作。采用该种方式测量掩模台承版面与物镜顶面之间的垂向距离需要分别对4个测量点单独进行测量,测量操作复杂,测量效率低,影响光刻机产率。另外,为了确保测量精度,对垂向测量块的加工精度要求非常高,需要使用磨床根据物镜物距修模垂向测量块,并使用三坐标标定垂向高度与平行度,经过反复修模标定才能够达到加工精度要求,垂向测量块的加工劳动强度大、加工效率低,严重影响掩模台的垂向测量效率,进而影响光刻机产率。并且,每个垂向测量块只能适用于一台光刻机,不同机型的光刻机之间垂向测量块无法通用,生产过程中,需要根据每台光刻机的物镜物距加工多个垂向测量块,需要耗费大量的时间成本和人力成本,一定程度上影响光刻机的使用成本。
发明内容
本发明的目的在于提出一种掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法,能够提高掩模台的垂向测量效率、提高光刻机产率、节约光刻机使用成本。
为达此目的,一方面,本发明采用以下技术方案:
一种掩模台垂向测量工装,包括:支撑座、测试支座、两个传感器支架和多个传感器,所述测试支座设置在所述支撑座上,两个所述传感器支架分别设置在所述测试支座两侧,且两个传感器支架均与所述测试支座连接,多个所述传感器分别设置在对应的所述传感器支架上。
在其中一个实施例中,所述测试支座包括支座本体和支撑杆,所述支座本体与所述支撑座连接,所述支撑杆与所述支座本体连接,所述传感器支架与所述支撑杆滑动连接。
在其中一个实施例中,所述掩模台垂向测量工装还包括:顶紧旋钮,所述顶紧旋钮部分穿过所述传感器支架与所述支撑杆抵接。
在其中一个实施例中,所述掩模台垂向测量工装还包括:把手,所述把手与所述支座本体连接。
在其中一个实施例中,所述传感器支架上设置有位置调节部,所述传感器通过所述位置调节部与所述传感器支架连接。
在其中一个实施例中,
所述掩模台垂向测量工装还包括:紧固件,所述位置调节部为开设在所述传感器支架上的条形孔,所述传感器通过所述紧固件和所述条形孔的配合与所述传感器支架连接;或,
所述位置调节部包括滑轨、滑块和顶紧件,所述滑轨与所述传感器支架连接,所述滑块与所述滑轨滑动连接,所述传感器与所述滑块连接,所述顶紧件分别穿过所述传感器和所述滑块后与所述传感器支架抵接。
在其中一个实施例中,所述支撑座与所述测试支座可拆卸连接。
在其中一个实施例中,所述支撑座的高度大于或等于光刻机的物镜物距。
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