[发明专利]掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法在审

专利信息
申请号: 202011025761.4 申请日: 2020-09-25
公开(公告)号: CN114252042A 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 孟昆鹏;薛雷;程凯;李高波 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G01B21/16 分类号: G01B21/16;G03F7/20
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 掩模台垂 测量 工装 测量方法
【权利要求书】:

1.一种掩模台垂向测量工装,其特征在于,包括:支撑座(10)、测试支座(20)、两个传感器支架(30)和多个传感器(40),所述测试支座(20)设置在所述支撑座(10)上,两个所述传感器支架(30)分别设置在所述测试支座(20)两侧,且两个传感器支架(30)均与所述测试支座(20)连接,多个所述传感器(40)分别设置在对应的所述传感器支架(30)上。

2.根据权利要求1所述的掩模台垂向测量工装,其特征在于,所述测试支座(20)包括支座本体(21)和支撑杆(22),所述支座本体(21)与所述支撑座(10)连接,所述支撑杆(22)与所述支座本体(21)连接,所述传感器支架(30)与所述支撑杆(22)滑动连接。

3.根据权利要求2所述的掩模台垂向测量工装,其特征在于,所述掩模台垂向测量工装还包括:顶紧旋钮(80),所述顶紧旋钮(80)部分穿过所述传感器支架(30)与所述支撑杆(22)抵接。

4.根据权利要求2所述的掩模台垂向测量工装,其特征在于,所述掩模台垂向测量工装还包括:把手(90),所述把手(90)与所述支座本体(21)连接。

5.根据权利要求1所述的掩模台垂向测量工装,其特征在于,所述传感器支架(30)上设置有位置调节部,所述传感器(40)通过所述位置调节部与所述传感器支架(30)连接。

6.根据权利要求5所述的掩模台垂向测量工装,其特征在于,

所述掩模台垂向测量工装还包括:紧固件,所述位置调节部为开设在所述传感器支架(30)上的条形孔,所述传感器(40)通过所述紧固件和所述条形孔的配合与所述传感器支架(30)连接;或,

所述位置调节部包括:滑轨、滑块和顶紧件,所述滑轨与所述传感器支架(30)连接,所述滑块与所述滑轨滑动连接,所述传感器(40)与所述滑块连接,所述顶紧件分别穿过所述传感器(40)和所述滑块后与所述传感器支架(30)抵接。

7.根据权利要求1所述的掩模台垂向测量工装,其特征在于,所述支撑座(10)与所述测试支座(20)可拆卸连接。

8.根据权利要求1所述的掩模台垂向测量工装,其特征在于,所述支撑座(10)的高度大于或等于光刻机的物镜物距。

9.根据权利要求1至8任一项所述的掩模台垂向测量工装,其特征在于,多个所述传感器(40)均具有可变量程。

10.一种基于掩模台垂向测量工装的掩模台垂向测量方法,其特征在于,包括以下步骤:

将掩模台垂向测量工装的支撑座(10)通过掩模台承版台(50)的镂空处放置于物镜(60)的顶面上,并定位各个传感器(40)的触点位置;

取出工装,使用校准块(70)同步标定各个传感器(40)的初始测量值,使各个传感器(40)的初始测量值相同;

将支撑座(10)再次放到物镜(60)的顶面上,同时启动各个传感器(40)对掩模台承版面上的多个测量点进行测量,分别得到每个测量点处掩模台承版面与物镜(60)的顶面之间的垂向距离;

将每个测量点处掩模台承版面与物镜(60)的顶面之间的垂向距离与物镜物距进行比较,得到测量结果。

11.根据权利要求10所述的掩模台垂向测量方法,其特征在于,所述定位各个传感器的触点位置的步骤包括:根据所述物镜物距调节各个所述传感器(40)的触点位置。

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