[发明专利]一种硅基背照PIN器件结构有效

专利信息
申请号: 202011024275.0 申请日: 2020-09-25
公开(公告)号: CN112271229B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 丁继洪;陈计学;刘中梦雪;张伟;丁艳丽 申请(专利权)人: 华东光电集成器件研究所
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105;H01L29/868;H01L31/02;H01L31/0224
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所(普通合伙) 34113 代理人: 陈俊
地址: 233030 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种硅基背照PIN器件结构,包括基片,基片正面边缘注入有P+离子层,基片正面沉积有外延层,外延层表面设有氧化层;外延层设有与P+离子层相对应的P阱;外延层还设有N+保护环,P+隔离区以及N‑光敏区;氧化层上形成四象限分布的四个N‑光敏区,氧化层还设有实现器件结构自连与互连的Al引线;所述基片背面设有抗反射膜,抗反射膜外表面设有对背面光敏区进行四象限隔离的Al金属层;该PIN器件结构组件体积至少减小三分之二,实现PIN光电探测器P+与N+处于横向互连,基于背照PIN结构,完成了PIN结构光电探测器系统集成一体化,同时满足光电性能要求。
搜索关键词: 一种 硅基背照 pin 器件 结构
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华东光电集成器件研究所,未经华东光电集成器件研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011024275.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top