[发明专利]半导体器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202011005023.3 申请日: 2020-09-22
公开(公告)号: CN112768451A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 崔宰福;安秀智;安容奭;李承炯 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李敬文
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体器件,包括:衬底,沿第一方向顺序布置的单元区域、边界区域、外围区域;有源图案,在单元区域中沿第二方向延伸,第二方向相对于第一方向形成第一锐角;以及边界图案,在单元区域中且与边界区域直接相邻。边界图案包括沿第二方向延伸的第一侧表面和从第一侧表面沿第三方向延伸的第一边界表面,第三方向与第一方向垂直,且第一边界表面限定单元区域和边界区域之间的边界。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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