[发明专利]开口结构及其形成方法、接触插塞及其形成方法

摘要

一种开口结构及其形成方法、接触插塞及其形成方法，所述开口结构的形成方法，提供基底，所述基底中形成有目标层，所述基底露出所述目标层的表面；在所述目标层表面上形成环形垫片，所述环形垫片中间具有暴露出目标层部分表面的中央通孔；形成覆盖基底、目标层、环形垫片的介质层；刻蚀所述介质层，在介质层中形成与中央通孔连通的刻蚀孔，所述刻蚀孔和中央通孔构成开口结构。通过形成环形垫片，在介质层中形成刻蚀孔时，当刻蚀孔存在弯曲或者位置偏移时，所述环形垫片能防止刻蚀孔底部的侧向刻蚀，使得刻蚀孔的底部被导引至环形垫片之间的中央通孔中，因而使得刻蚀孔底部被纠正至正确的位置，使得形成的开口结构能正常的暴露目标金属层表面。