[发明专利]用于硬掩模组合物的单体、组合物及其应用和形成图案的方法在审
| 申请号： | 202010854194.7 | 申请日： | 2020-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN114085131A | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 乔泊 | 申请（专利权）人： | 北京国芯微电科技有限公司 |
| 主分类号： | C07C33/36 | 分类号： | C07C33/36;C07C35/44;C07C43/196;C07D209/86;G03F7/004;G03F7/027 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 陈静;刘依云 |
| 地址： | 100085 北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明涉及光刻技术领域，公开了用于硬掩模组合物的单体、组合物及其应用和形成图案的方法，该单体具有式(I)所示的结构：式(I)：R‑C(OX)‑L‑C(OX)‑R。本发明提供的新的硬掩模组合物在用于硬掩模层时具有优异的耐蚀刻性，同时还确保了对溶剂的可溶性间隙填充特征和平坦化特征。 |
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| 搜索关键词： | 用于 模组 单体 组合 及其 应用 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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