[发明专利]包含二维材料的晶体管以及相关的微电子装置、存储器装置和电子系统在审
| 申请号： | 202010836620.4 | 申请日： | 2020-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN112420839A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | K·M·考尔道;合田晃;山·D·唐;G·S·桑胡;杨立涛;刘海涛 | 申请（专利权）人： | 美光科技公司 |
| 主分类号： | H01L29/78 | 分类号： | H01L29/78;H01L29/06;H01L27/11524;H01L27/11551 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 王龙 |
| 地址： | 美国爱*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及包含二维材料的晶体管，并且涉及相关的微电子装置、存储器装置和电子系统。晶体管包括2D材料结构和栅极结构。所述2D材料结构在第一水平方向上平行延伸的介电鳍结构的表面上并且在其之间共形地延伸，并且包括源极区、漏极区和在所述第一水平方向上定位在所述源极区和所述漏极区之间的沟道区。所述栅极结构覆盖所述2D材料结构的所述沟道区，并且在与所述第一水平方向正交的第二水平方向上延伸。所述栅极结构在所述第一水平方向上在所述2D材料结构的所述沟道区的水平边界内。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 二维 材料 晶体管 以及 相关 微电子 装置 存储器 电子 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司，未经美光科技公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010836620.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
