[发明专利]底部抗反射涂料在审
申请号: | 202010771846.0 | 申请日: | 2020-08-04 |
公开(公告)号: | CN112327577A | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
发明(设计)人: | 陈建志;张庆裕 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/09 | 分类号: | G03F7/09;G03F7/16;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 陈蒙 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本公开涉及底部抗反射涂料。一种根据本公开的方法包括:提供衬底;在衬底上方沉积底层;在底层上方沉积光致抗蚀剂层;根据图案将光致抗蚀剂层的一部分和底层的一部分曝光于辐射源;烘烤光致抗蚀剂层和底层;以及对光致抗蚀剂层的曝光部分进行显影以将图案转移到光致抗蚀剂层。该底层包括:聚合物主链;极性可切换基团;键合到聚合物主链的可交联基团;以及光酸产生剂。极性可切换基团包括:键合到聚合物主链第一端基、包括氟的第二端基、以及键合在第一端基和第二端基之间的酸不稳定基团。该曝光分解光酸产生剂以生成酸性部分,该酸性部分在烘烤期间将第二端基从聚合物主链分离。 | ||
搜索关键词: | 底部 反射 涂料 | ||
【主权项】:
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