[发明专利]底部抗反射涂料在审

专利信息
申请号: 202010771846.0 申请日: 2020-08-04
公开(公告)号: CN112327577A 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 陈建志;张庆裕 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G03F7/09 分类号: G03F7/09;G03F7/16;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 陈蒙
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开涉及底部抗反射涂料。一种根据本公开的方法包括:提供衬底;在衬底上方沉积底层;在底层上方沉积光致抗蚀剂层;根据图案将光致抗蚀剂层的一部分和底层的一部分曝光于辐射源;烘烤光致抗蚀剂层和底层;以及对光致抗蚀剂层的曝光部分进行显影以将图案转移到光致抗蚀剂层。该底层包括:聚合物主链;极性可切换基团;键合到聚合物主链的可交联基团;以及光酸产生剂。极性可切换基团包括:键合到聚合物主链第一端基、包括氟的第二端基、以及键合在第一端基和第二端基之间的酸不稳定基团。该曝光分解光酸产生剂以生成酸性部分,该酸性部分在烘烤期间将第二端基从聚合物主链分离。
搜索关键词: 底部 反射 涂料
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010771846.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top