[发明专利]用于PVD溅射腔室的可偏压式通量优化器/准直器在审
| 申请号： | 202010731212.2 | 申请日： | 2016-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN112030123A | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 马丁·李·里克;张富宏;安东尼·因凡特;王征 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在本文描述的一些实施方式中，提供一种可偏压准直器。使所述准直器偏压的能力允许控制溅射物质所穿过的电场。在本公开内容的一些实施方式中，提供了一种具有高有效深宽比，同时维持沿所述准直器的六边形阵列的所述准直器周边的低深宽比的准直器。在一些实施方式中，提供了在六边形阵列中带有陡峭入口边缘的准直器。已经发现，在所述准直器中使用陡峭入口边缘减少了所述六边形阵列的单元的沉积突悬和沉积堵塞。这些各种特征使得膜均匀性得到改善并且延长了所述准直器和工艺配件的寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 pvd 溅射 偏压 通量 优化 准直器 | ||
【主权项】：
暂无信息
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