[发明专利]等离子体处理装置和控制方法在审
| 申请号： | 202010717271.4 | 申请日： | 2020-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN112309818A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 池田太郎;佐藤幹夫;镰田英纪 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提供一种能够监视等离子体的状态的等离子体处理装置和控制方法。基于本公开的一个方式的等离子体处理装置具备：处理容器，其具有形成有开口部的顶板；具有导电性的圆环状构件，其以与所述顶板绝缘的状态设置于所述开口部；微波辐射机构，其以包括所述圆环状构件的中心的方式配置于所述顶板上，用于向所述处理容器的内部辐射微波；以及等离子体检测部，其与所述圆环状构件连接，用于检测生成的等离子体的状态。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 控制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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