[发明专利]硅掺杂碳化锗膜、光学薄膜及其制备方法和应用

摘要

本发明的主要目的在于提供一种硅掺杂碳化锗膜、光学薄膜及其制备方法和应用。所述硅掺杂碳化锗膜组成为Gea1SibCa2，0.01≤b≤0.2，a10，a20，0.8≤a1+a2≤0.99，a1+a2+b＝1；所述光学薄膜包括基片，其材质为透红外材料；第一硅掺杂碳化锗膜，镀制于所述基片的表面。所要解决的技术问题是提供一种用于红外玻璃的功能层，使其不仅能提高碳化锗膜的硬度和抗摩擦磨损能力，同时又能保持碳化锗膜较低的应力和良好的红外透过率，获得综合性能优异的锗、硅共掺杂的红外碳基防护膜，将其制作为红外镜头应用于红外热成像系统中，可以延长其使用寿命，从而更加适于实用。