[发明专利]一种防散射栅格及其制备方法有效
| 申请号： | 202010568028.0 | 申请日： | 2020-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN113823434B | 公开（公告）日： | 2023-09-08 |
| 发明（设计）人： | 林文雄;邓晶;陈金明;张志;黄见洪;黄李杰;葛燕;张江钿 | 申请（专利权）人： | 中国科学院福建物质结构研究所 |
| 主分类号： | G21K1/02 | 分类号： | G21K1/02 |
| 代理公司： | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人： | 史冬梅 |
| 地址： | 350002 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种防散射栅格及其制备方法，方法包括：根据每片栅格膜片与发射源的距离，计算每片栅格膜片上多个孔洞的孔间距及每个孔洞的孔径；根据每片栅格膜片上多个孔洞的孔间距及每个孔洞的孔径，确定每片栅格膜片上掩膜层的结构；根据确定的掩膜层的结构，在每片栅格膜片上镀设掩膜层；利用刻蚀方法刻蚀每片镀设掩膜层的栅格膜片；将每片刻蚀后的栅格膜片按照其与发射源的距离依次进行定位粘合，得到防散射栅格。本发明利用等离子刻蚀方法加工栅格膜片，通过增材制造方法在栅格膜片上制备具有特殊结构的掩膜层，克服了大幅面等离子刻蚀过程中刻蚀不均匀的问题，同时还避免了激光加工或机械加工带来的系统复杂度和加工误差叠加等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 散射 栅格 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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