[发明专利]一种薄膜制备方法

摘要

本申请实施例提供了一种薄膜制备方法，将第一晶圆和第二晶圆分别置入第一反应腔和第二反应腔，向第一反应腔和第二反应腔通入第一工艺气体和第一惰性气体，对第一反应腔和第二反应腔中的气体进行射频处理，进行第一镀膜操作，第一镀膜操作完成后，停止通入第一工艺气体，进行第二镀膜操作。基于该方法，第一镀膜操作过程中，第一工艺气体浓度较小的腔体内的沉积速率较大，第二镀膜操作中可以使双腔中剩余的第一工艺气体反应完全，其中第一工艺气体浓度较大的腔体内的沉积速率较大，经过第一镀膜操作和第二镀膜操作，第一晶圆表面薄膜的厚度和第二晶圆表面薄膜的厚度差异量较小，第一晶圆表面薄膜的非均匀度和第二晶圆表面薄膜的非均匀度较小。