[发明专利]倾斜光栅的制备方法、压印模板有效
| 申请号： | 202010561769.6 | 申请日： | 2020-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN111665682B | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 李多辉;路彦辉;周雪原;赵晋;宋梦亚 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;姜春咸 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种倾斜光栅的制备方法、压印模板，属于光栅制备技术领域，其可至少部分解决现有的压印模板以及制备方法对制备倾斜光栅具有一定困难的问题。本发明的一种倾斜光栅的制备方法，包括：在基底上形成柔性材料层；在柔性材料层远离基底的表面上形成磁性材料层；对柔性材料层和磁性材料层进行图案化处理，柔性材料层形成多个间隔分布的柱状的柔性结构，磁性材料层形成多个间隔分布的柱状的磁性结构，且柔性结构与磁性结构一一对应，以形成压印模板，其中，基底的位置不变时，当磁性结构受磁力发生位置变化，能够带动柔性结构发生位置变化；利用压印模板形成倾斜光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 倾斜 光栅 制备 方法 压印 模板 | ||
【主权项】：
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