[发明专利]涂布系统及其校正方法有效

专利信息
申请号: 202010542772.3 申请日: 2020-06-15
公开(公告)号: CN113019835B 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 张胜凯 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: B05C13/02 分类号: B05C13/02
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 浦彩华;姚开丽
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种涂布系统及其校正方法,涂布系统包括多个支撑针、吸附平面以及校正盘。吸附平面位于多个支撑针之间,校正盘用以配置在多个支撑针或吸附平面上。校正盘包括圆形上部表面以及圆形底部表面。圆形底部表面相对于圆形上部表面。圆形底部表面包括圆形平面以及围绕圆形平面的承靠壁,且圆形平面的边缘和圆形底部表面的边缘同心。承靠壁用以限制多个支撑针的水平移动,且圆形平面用以覆盖吸附平面。借此,本发明的涂布系统,可以有效校正支撑针和吸附平面的位置。
搜索关键词: 系统 及其 校正 方法
【主权项】:
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