[发明专利]X射线分析系统和X射线分析方法在审
| 申请号： | 202010512072.X | 申请日： | 2020-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN112083024A | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 高桥秀之 | 申请（专利权）人： | 日本电子株式会社 |
| 主分类号： | G01N23/2251 | 分类号： | G01N23/2251 |
| 代理公司： | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人： | 权鲜枝;刘宁军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种X射线分析系统和X射线分析方法，针对反映出价带的电子状态的Lα峰(70C)和Lβ峰(70D)设定3个ROI：ROI‑c、ROI‑d、ROI‑e。用ROI‑a内的累计值将ROI‑c、ROI‑d、ROI‑e内的累计值标准化，从而求出试样矢量。将试样矢量与对应于多个化合物的多个化合物矢量进行比较，基于类似度最高的化合物矢量，推定出构成试样的化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 分析 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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