[发明专利]X射线分析系统和X射线分析方法

权利要求书

1.一种X射线分析系统，其特征在于，

包含：

生成装置，其生成关于从试样释放出的X射线的光谱；以及

分析装置，其基于上述光谱来分析上述试样，

在上述光谱中包含由于从相当于外壳的价带向内壳的电子跃迁而产生的第1峰、以及由于内壳之间的电子跃迁而产生的第2峰，

上述分析装置包含：

计算部，其基于上述光谱来计算反映出上述试样中的化学键的特有的信息；以及

分析部，其基于上述特有的信息来分析上述试样。

2.根据权利要求1所述的X射线分析系统，其特征在于，

上述分析装置还包含设定部，上述设定部针对上述光谱设定用于评估上述第1峰的第1关注区域和用于评估上述第2峰的第2关注区域，

上述计算部通过用上述第2关注区域内的信息对上述第1关注区域内的信息进行标准化来计算上述特有的信息。

3.根据权利要求2所述的X射线分析系统，其特征在于，

在上述光谱中包含由于从相当于外壳的价带向内壳的电子跃迁而产生的多个第1峰，

上述设定部设定用于评估上述多个第1峰的多个第1关注区域，

上述计算部通过用上述第2关注区域内的信息对上述多个第1关注区域内的多个信息进行标准化来计算上述特有的信息。

4.根据权利要求1所述的X射线分析系统，其特征在于，

上述分析部基于上述特有的信息来确定构成上述试样的化合物。

5.根据权利要求1所述的X射线分析系统，其特征在于，

为了取得上述X射线而对上述试样照射电子束，

上述X射线是具有1keV以下的能量的软X射线，

上述生成装置包含：波长色散元件，其被上述X射线照射；以及检测器，其检测从上述波长色散元件发出的在空间上扩展的色散X射线。

6.一种X射线分析方法，其特征在于，

包含：

对试样照射电子束的工序；

生成从上述试样释放出的X射线的光谱的工序；以及

基于上述光谱来分析上述试样的工序，

上述光谱包含由于从相当于外壳的价带向内壳的电子跃迁而产生的多个瞩目峰，

在分析上述试样的工序中，基于上述多个瞩目峰来计算反映出上述试样中的化学键的特有的信息，基于上述特有的信息来分析上述试样。