[发明专利]阵列基板及其制备方法在审
| 申请号： | 202010424574.7 | 申请日： | 2020-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN111610659A | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 奚苏萍 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1337;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 刁文魁 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请提供一种阵列基板及其制备方法，该阵列基板包括依次设置的基底、色阻层、平坦层、像素电极层、多个第一填充体和配向层，色阻层上开设有至少一第一开孔；平坦层覆盖第一开孔，平坦层对应于第一开孔内的部分上开设有一第一过孔；像素电极层包括多个连接走线，每一连接走线对应覆盖一第一过孔并形成一第一凹部；第一填充体一一对应填充于一第一凹部；配向层覆盖第一填充体。本申请提高了配向层厚度的均一性，提升了显示面板的显示品质。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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