[发明专利]离子注入设备及其控制方法有效
| 申请号： | 202010364188.3 | 申请日： | 2020-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN111508808B | 公开（公告）日： | 2023-08-08 |
| 发明（设计）人： | 闫立;刘晨亮;姜东诚;谭超;辜祥伟;卫家;张新慧;李振伟;樊海伟;陈博陶 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/02 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;冯建基 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供了一种离子注入设备，该离子注入设备包括工艺腔室和与所述工艺腔室连接的分析磁场；所述工艺腔室与所述分析磁场之间具有离子束入口和调节装置，所述调节装置被配置为控制所述离子束入口的开启区域，以及调节开启区域的开启程度。本公开还提供了一种离子注入设备的控制方法。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 设备 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
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