[发明专利]一种预热型管式PECVD设备及其控制方法

摘要

本发明公开了一种预热型管式PECVD设备及其控制方法，该设备包括上料滑台、净化台、炉体柜、气源柜、真空泵以及下料滑台，所述净化台用来完成基片及其载具从上料滑台、下料滑台到炉体柜内炉体反应室之间的输运，所述净化台包括依次相连的预热传送区、载具传输区及冷却区，所述预热传送区与一个以上的预热腔相连通，所述预热腔用于完成基片及其载具由室温到设定温度值的升温过程送入所述预热传送区，然后经载具传输区送入炉体柜进行恒温、镀膜工艺，最后经冷却区进行冷却作业后送至下料滑台。该控制方法基于上述设备来实施。本发明具有结构简单、布局合理、能够提高整机效率等优点。