[发明专利]一种基于石墨烯表面吸附效应的光电探测器制备方法在审
申请号: | 202010177216.0 | 申请日: | 2020-03-13 |
公开(公告)号: | CN111370534A | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 王军;张超毅;张兴超;苟君;蒋亚东 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0216;H01L31/09 |
代理公司: | 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人: | 杜朗宇 |
地址: | 610000 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于石墨烯表面吸附效应的光电探测器制备方法,属于光电探测器技术领域。本发明中石墨烯光电探测器的制备方法包括:在衬底上制备绝缘层;在绝缘层上引入单层石墨烯;在带有石墨烯的衬底上制备涂覆层;使用丙酮处理涂覆层,石墨烯因表面吸附效应黏附少量光刻胶;通过热蒸发制备金属电极;得到光刻胶增强型石墨烯光电探测器。该制备方法成功在石墨烯表面吸附均匀的光刻胶,可以有效提高光吸收率,进而提高石墨烯光电探测器的光响应。本发明的制备方法具有工艺流程简单,易于大面积制作并且与石墨烯材料相兼容等优点,有望用于大面积石墨烯光电探测器的制备。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 石墨 表面 吸附 效应 光电 探测器 制备 方法 | ||
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