[发明专利]一种氧阻隔涂层及其制备方法

摘要

本发明属于材料技术领域，尤其涉及一种氧阻隔涂层及其制备方法和应用。本发明的氧阻隔涂层包括底涂层、缓冲层和面涂层，底涂层起到增加附着力的作用，缓冲层可调节涂层的热膨胀系数，面涂层可有效阻隔氧，特别是原子氧。涂层基于液相的聚硅氮烷制备，涂覆方式灵活；固化后的涂层为有机‑无机杂化涂层，主体成份为氧化硅。当原子氧通量为5.2x1021atoms/cm2时，涂层保护的聚合物材料剥蚀速率仅为0.015mg/cm2。从底涂层到缓冲层再到面涂层，存在化学结构无机成分递增的梯度，热膨胀系数可调控，适用于热膨胀系数大的材料。