[发明专利]溅射装置及利用其的溅射方法在审
| 申请号： | 202010138214.0 | 申请日： | 2020-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN112301318A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 李宽龙;南相睦;金显佑;边宰号 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人： | 李英艳;玉昌峰 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开的一实施例公开了一种溅射装置，包括：腔室，分别安装有溅射对象体和目标物；和磁铁部，在所述目标物形成磁场并沿着第一方向往返移动，所述磁铁部具备一个以上的单元磁铁，所述单元磁铁包括沿着与所述第一方向垂直的第二方向延伸的中心磁铁、以及隔开预定间隔围绕所述中心磁铁的外围磁铁，所述中心磁铁在沿着所述第二方向的端部的宽度相比于所述中心磁铁的本体的中心部更窄。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 利用 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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