[发明专利]对准装置及方法、成膜装置及方法、电子器件的制造方法、记录介质及程序在审
| 申请号： | 202010114406.8 | 申请日： | 2020-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN111621741A | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 小林康信;菅原洋纪 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/54;H01L21/68;H01L51/56 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 邓宗庆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法、电子器件的制造方法、记录介质及程序。抑制因掩模的个体差异而导致对准精度降低。对准装置具备对移动机构和位置调整机构进行控制的控制部、以及取得掩模(220)的厚度信息的厚度信息取得构件，所述移动机构使基板(10)和掩模(220)中的至少一方在第一方向上移动，使基板(10)与掩模(220)接近或分离，所述位置调整机构调整基板(10)与掩模(220)之间的相对位置，所述控制部基于由所述厚度信息取得构件取得的所述掩模的厚度信息来控制所述移动机构。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 装置 方法 电子器件 制造 记录 介质 程序 | ||
【主权项】：
暂无信息
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