[发明专利]沉积在RF或MW金属部件上的抗次级电子倍增涂层、通过激光表面纹理化形成其的方法在审
| 申请号： | 202010086179.2 | 申请日： | 2020-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN111549363A | 公开（公告）日： | 2020-08-18 |
| 发明（设计）人： | P·卡约;F·雅诺 | 申请（专利权）人： | 雷迪埃公司 |
| 主分类号： | C25D5/48 | 分类号： | C25D5/48;C25D3/46;C25D3/48;C23C14/16 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 张小稳 |
| 地址： | 法国欧*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及沉积在RF或MW金属部件上的抗次级电子倍增涂层、通过激光表面纹理化形成该涂层的方法。本公开涉及沉积RF或MW部件上的抗次级电子倍增涂层、通过用激光器对这种涂层进行表面纹理化。本发明涉及在金属基板上通过激光烧蚀的抗次级电子倍增涂层的形成方法，该抗次级电子倍增涂层的构成材料选自门捷列夫表的第10列或第11列的金属或者这些金属的合金中，并且该涂层的纹理包括以规则的间隔重复的空腔的一个或多个图案，两个相邻的空腔之间的间隔间距在0到100μm之间的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 rf mw 金属 部件 次级 电子 倍增 涂层 通过 激光 表面 纹理 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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