[发明专利]半导体激光光源装置在审

专利信息
申请号: 202010082135.2 申请日: 2020-02-07
公开(公告)号: CN111538202A 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 山田裕贵 申请(专利权)人: 优志旺电机株式会社
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;H01S5/40;H01S5/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 任玉敏
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种使用多个半导体激光芯片在抑制装置规模的扩大的同时提高了光输出的半导体激光光源装置。半导体激光光源装置具备:形成于散热器的面的上层并具有光出射区域的多个半导体激光芯片;以及折射光学系统,从光出射区域出射的光线束入射到该折射光学系统而转换行进方向并出射。至少两个半导体激光芯片为了使从各半导体激光芯片所具有的各个光出射区域出射的光线束的主光线彼此相互非平行,在从与散热器的面正交的第一方向观察时相互倾斜地配置,折射光学系统通过由第一方向与该折射光学系统的光轴方向形成的第一平面上的第一焦点、以及由光轴方向与和第一方向正交的第二方向形成的第二平面上的第二焦点关于光轴方向位移后的光学系统构成。
搜索关键词: 半导体 激光 光源 装置
【主权项】:
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