[发明专利]支撑架、真空干燥装置、干燥系统、基板干燥方法在审
| 申请号： | 202010066591.8 | 申请日： | 2020-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN111261573A | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 张浩;熊黎;唐成;杨金珂;孙泽斌 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/687 | 分类号： | H01L21/687;H01L21/67;G03F7/40;G03F7/38 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供一种支撑架、真空干燥装置、干燥系统、基板干燥方法，涉及显示技术领域，可以降低因支撑针导致的显示面板显示亮度不均匀现象的发生几率。支撑架包括：支撑座和多个支撑杆。支撑杆沿第一方向延伸，多个支撑杆沿第二方向间隔且平行设置，并固定于支撑座上。第一方向和第二方向垂直。多个支撑杆包括一个第一支撑杆和两个第二支撑杆。第二支撑杆位于多个支撑杆的最外侧，第一支撑杆与两个第二支撑杆的间距相等。第一支撑杆上设有多个第一支撑针，第二支撑杆上设有多个第二支撑针，第一支撑针和第二支撑针用于对基板进行支撑。基板包括多个结构相同的子基板。第一支撑针与第二支撑针之间的区域，用于使该基板中的多个子基板位于该区域内。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑架 真空 干燥 装置 系统 方法 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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